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Micro LED技術原理及簡介(Micro LED功能特性和優勢及發展前景)
更新時間:2018-8-7 9:59:49 編輯:菲絮 文章來源:大為世紀 調整文字大小:【

Micro LED簡介

MicroLED是新一代顯示技術,比現有的OLED技術亮度更高、發光效率更好、但功耗更低。20175月就已經開始新一代顯示技術的開發。20182月便推出了MicroLED電視。

Micro LED功能特性

microLED比現有的OLED技術亮度更高、發光效率更好、但功耗更低。microLED出色的特性將使得它可以在電視、iPhone、iPad上應用。

Micro LED歷史

說起Micro LED,先得從顯示TFT-LCD背光模組應用說起。在1990年代TFT-LCD開始蓬勃發展時,因LED具有高色彩飽和度、省電、輕薄等特點,部分廠商就利用LED做背光源。然而因成本過高、散熱不佳、光電效率低等因素,并未大量應用于TFT-LCD產品中。

直到2000年,藍光LED芯片刺激熒光粉制成白光LED技術的制程、效能、成本開始逐漸成熟;當進入2008年,白光LED背光模組呈現爆發性的成長,幾年間幾乎全面取代了CCFL,其應用領域由手機、平板電腦、筆電、臺式顯示器乃至電視等等。

然而,因TFT-LCD非自發光的顯示原理所致,其open cell穿透率約在7%以下,造成TFT-LCD的光電效率低落;且白光LED所能提供的色飽和度仍不如三原色LED,大部分TFT-LCD產品約僅72%NTSC;再則,于室外環境下,TFT-LCD亮度無法提升至1000nits以上,致使影像和色彩辨識度低,為其一大應用缺陷。故另一種直接利用三原色LED做為自發光顯示點畫素的LED DisplayMicro LED Display的技術也正在發展中。

Micro led技術原理

MicroLEDDisplay的顯示原理,是將LED結構設計進行薄膜化、微小化、陣列化,其尺寸僅在1~10μm等級左右;后將MicroLED批量式轉移至電路基板上,其基板可為硬性、軟性之透明、不透明基板上;再利用物理沉積制程完成保護層與上電極,即可進行上基板的封裝,完成一結構簡單的MicroLED顯示。

而要制成顯示器,其晶片表面必須制作成如同LED顯示器般之陣列結構,且每一個點畫素必須可定址控制、單獨驅動點亮。若透過互補式金屬氧化物半導體電路驅動則為主動定址驅動架構,MicroLED陣列晶片與CMOS間可透過封裝技術。

黏貼完成后MicroLED能藉由整合微透鏡陣列,提高亮度及對比度。MicroLED陣列經由垂直交錯的正、負柵狀電極連結每一顆MicroLED的正、負極,透過電極線的依序通電,透過掃描方式點亮MicroLED以顯示影像。

MicroLED典型結構是一PN接面二極管,由直接能隙半導體材料構成。當對MicroLED上下電極施加一正向偏壓,致使電流通過時,電子、空穴對于主動區復合,發射出單一色光。MicroLED光譜主波長的FWHM20nm,可提供極高的色飽和度,通?伞120%NTSC。

而且自2008年以后,LED光電轉換效率得到了大幅提高,100lm/W以上已成量產標準。因此對于MicroLED顯示的應用,因其自發光的顯示特性,搭配幾乎無光耗元件的簡易結構,就可輕易實現低能耗或高亮度的顯示器設計。

這樣可解決目前顯示器應用的兩大問題,一是穿戴型裝置、手機、平板等設備的80%以上的能耗在于顯示器上,低能耗的顯示器技術可提供更長的電池續航力;二是環境光較強致使顯示器上的影像泛白、辨識度變差的問題,高亮度的顯示技術可使其應用的范疇更加寬廣。

Micro LED優勢

高亮度、低功耗、超高解析度與色彩飽和度。MicrolED最大的優勢都來自于它最大的特點,微米等級的間距,每一點畫素(pixel)都能定址控制及單點驅動發光。比起其他LED,發光效率上,目前MICROLED最高,且還在大幅提升空間;發光能量密度上,MICROLED最高,且還有提升空間。——前者,有利于顯示設備的節能,其功率消耗量約為LCD10%、OLED50%;后者則可以節約顯示設備有限的表面積,并部署更多的傳感器,目前的理論結果是,MICROLEDOLEDD比較,達到同等顯示器亮度,只需要后者10%左右的涂覆面積。與同樣是自發光顯示的OLED相較之下,亮度比其高30倍,且分辨率可達1500PPI(像素密度),相當于AppleWatch采用OLED面板達到300PPI5倍之多。

壽命長。由于Micro-LED使用無機材料,且結構簡易,幾乎無光耗,它的使用壽命非常長。這一點是OLED無法相比的,OLED作為有機材料、有機物質,有其固有缺陷——即壽命和穩定性,難以媲美無機材料的QLEDMICROLED。

能夠適應各種尺寸。成本降低空間大。目前微投影技術以數位光線處理(DigitalLightProcessingDLP)、反射式硅基板液晶顯示(LiquidCrystalonSilicon,LCoS)、微機電系統掃描(MEMSScanning)叁種技術為主,但這叁種技術都須使用外加光源,使得模組體積不易進一步縮小,成本也較高。相較之下,採用自發光的MicroLED微顯示器,不須外加光源,光學系統較簡單,因此在模組體積的微型化及成本降低上具優勢.

應用范疇廣。MicroLED解決了幾大問題,一個是消費型平板包括智能手機、可穿戴設備80%的能耗都在顯示器上,低能耗的MicroLED顯示器將大大延長電池續航能力,對于MicroLED顯示的應用,因其自發光的顯示特性,搭配幾乎無光耗元件的簡易結構,就可輕易實現低能耗或高亮度的顯示器設計。二是環境光較強致使顯示器上的影像泛白、辨識度變差的問題,MicroLED高亮度的顯示技術可以輕松解決這個問題,使其應用的范疇更加寬廣。

Micro LED產業鏈如何

對于一個MicroLED顯示產品,他的基本構成是TFT基板、超微LED晶粒、驅動IC三大塊。這三者有一個共同的特點,即大量繼承于已有的液晶和LED產業。

但是,為什么商顯行業對MicroLED的興趣沒有那么高漲?答案分兩個,第一是現在很多顯示企業,最忙的事情是OLED。第二,MicroLED有一個其他電子行業幾乎不會用到的高難度工藝——巨量微轉移(也叫巨量轉移)。

“巨量轉移”是一個什么技術呢?簡單說就是在指甲蓋大小的TFT電路基板上,按照光學和電氣學的必要規范,均勻焊接三五百,甚至更多個紅綠藍三原色LED微小晶粒,且允許的工藝失敗率是有幾十萬分之一!挥羞_到這樣工藝的產品,才能真正應用到AppleWatch3等產品上。

對于MicroLED的工藝問題,很多人認為,可以從傳統LED屏中攝取經驗。但是,MicroLED與傳統led顯示產品差別巨大。與傳統LED顯示屏比較,MicroLED的差別主要在于:1.精密程度數十倍的提升;2.集成工藝從直插、表貼、COB封裝等變成了“巨量微轉移”;3.缺陷可修復性幾乎為零;4.背板從印刷電路板,變成了液晶和OLED顯示所使用的TFT基板,或者CPU與內存所采用的單晶硅基板。

即與傳統LED顯示屏比較,MicroLED在晶粒、封裝、集成工藝、背板、驅動等每一個方面都不一樣——所以,可以看到MicroLED產品的火熱沒有得到任何一個傳統LED大屏廠商的表態。

事實上,除了晶粒、TFT背板、IC這些“元組建”,繼承于LED晶粒、半導體顯示、IC設計企業等之外,MicroLED正真的核心則是“如何將這些元件集成”,即“巨量轉移”技術。后者是整個行業的命門。如果有企業要牽頭MicroLED產品,最需要的即是從這里入手。

不過,即便是這種比較深入的項目其對MicroLED的產業時間表預期亦不能樂觀:2018年實現全彩樣品,距離真實商業應用還有多遠依然不好說。以OLED為例,實現全彩,到目前手機行業的大規模認可,中間走了二十余年。

綜上所述,從元件角度看,MicroLEDTFTICLED晶粒上都不具有難度;但是從工藝和產業進程看,巨量轉移橫亙在MicroLED愿景與現實之間,短期難以徹底跨越。

Micro LED應用前景廣泛

目前如果考慮現有技術能力,Micro-LED有兩大應用方向,一是可穿戴市場,有望在2018年推出Micro LED穿戴設備。;二是超大尺寸電視市場,Micro LED已在分辨率、亮度、對比度都具有優良的性能。

從短期來看Micro-LED市場集中在超小型顯示器,從中長期來看,Micro-LED的應用領域非常廣泛,橫跨穿戴式設備、超大室內顯示屏幕外,頭戴式顯示器(HUD)、抬頭顯示器(HUD)、車尾燈、無線光通訊Li-Fi、AR/VR、投影機等多個領域。

 

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